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                高纯氧化铝的除杂方法

                点击次数:   更新时间:19/09/30 17:25:09     来源:www.sdkhjt.com关闭分    享:
                  氢氧化铝快脱粉是制备的高纯氧化铝的原料之一,由于氢氧化铝快脱粉中含有硅酸盐、钠⌒离子和钾离子,势必会对氧化铝产品的纯度造成不利的影响,所以我们需要想办法除去它们,通过以下资料我们来了解一下这〖方面的知识:
                  对于高纯氧化铝中的杂质硅酸㊣盐,当PH在5.0~8.0范围时,硅酸∩在这个PH范围的水中完全电离,以硅酸根离子存←在,只要过滤就能将硅杂质除去。所以除硅的方法是:在氢氧化铝快脱粉的悬浊液中加╲入浓度为1:3的稀HNO3,调PH5.5左右(调PH的方法是往悬浊液中滴加两滴配制的稀HNO3,用范围为5.0~9.0的精密PH试纸测PH,当PH为5.5时停止滴加)。当氢氧化铝悬浊液在85℃下边加』热边搅拌一个小时,更有利于除去杂质硅,因为加热搅拌时,大粒的氢氧化铝快脱粉会溶解成更细小的微粒,使颗粒之间的杂质溶解到∏水中,有利于除去。PH调好后,用G4漏斗过滤,为了节省过滤㊣ 时间,用抽滤机和抽滤瓶进行抽滤,以节约★过滤时间。
                  对于钠△离子、钾离子以及引入硝酸根离子,由于〓金属钠和钾化学活性较高,两离子完全溶解于水中,硝ζ 酸根离子也完全溶于水,所以去除高纯氧化铝的钠离子、钾离子和硝酸根离子时,要多清洗几◇次。清洗的方法是:将除过硅,且过滤过的氢氧化铝滤饼转移到组织々搅拌匀浆机中,加入20~50倍的水(水的体积是※滤饼体积的倍数)。搅拌10分钟,之后再用布氏漏斗抽滤。重复清洗步骤▅5次就可以把钠离子和钾离子去除。
                  根据多年的生产经验结合相关的文献资料,小编探索出了一套除去杂质的方法①。不过由于高纯氧化铝的制备工艺多种多样,其除杂提纯工艺也有所不同,以上只是针对氢氧化铝快脱粉制备高纯度氧化铝的除杂方法。
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